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アルミナジルコニア粉末処理用の耐摩耗設計を備えた毎時100kgの水蒸発能力遠心噴霧乾燥機

アルミナジルコニア粉末処理用の耐摩耗設計を備えた毎時100kgの水蒸発能力遠心噴霧乾燥機

毎時100kgの水蒸発能力遠心噴霧乾燥機

耐摩耗設計遠心噴霧乾燥機

アルミナジルコニア粉末処理用噴霧乾燥装置

起源の場所:

中国

ブランド名:

ECER

証明:

CE, ISO 9001

モデル番号:

CSD-セラミック-100

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製品詳細
ハイライト:

毎時100kgの水蒸発能力遠心噴霧乾燥機

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耐摩耗設計遠心噴霧乾燥機

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アルミナジルコニア粉末処理用噴霧乾燥装置

支払いと送料の条件
最小注文数量
1セット
価格
交渉可能
パッケージの詳細
スチールフレーム補強、防食コーティング、多層衝撃保護を備えた頑丈な輸出梱包
受渡し時間
45-60営業日
支払条件
T/T、L/C、ウェスタンユニオン
供給の能力
毎月10セット
製品説明

陶器産業の遠心噴霧乾燥機は,技術的な陶器粉末生産の厳しい条件のために特別に設計された重用乾燥システムです.水蒸発容量100kg/hで,製品経路全体にわたる包括的な着用保護,この装置は,アルミナ,ジルコニア,シリコンナイトリド,バリウムチタナートを含む磨き陶器のスラムを信頼的に処理します.そしてフェライト粒子を,一貫した粒子の特性を持つ,自由流動のプレス準備式粉末に耐磨設計哲学により 機器の使用寿命が延長され 製品がこの困難な加工環境で 純潔に保たれます

磨損管理は 陶器のスプレー乾燥における 決定的な技術課題であり このシステムはそれを包括的に解決しますサイクロン分離器は,アルミニウムとジルコニアのスラムで連続的に動作するように指定された内部セラミックタイル内面を備えていますこのアプリケーションでは,従来の不oxidable steel cyclones が発生する急速な金属侵食を防止します.相互接続管は,粒子の衝突が集中しているすべての方向変化点に交換可能な磨き板を組み込む中心離散原子化器ディスクは,最大的な機械的ストレスの点での侵食条件に耐えられるウルフタンカービッドの着用挿入物を受け入れます.定期的なメンテナンスの間隔の間に挿入器を交換できるように,速やかに交換できるツール.

乾燥塔は,高固体セラミックスラージーの完全な水分除去のために不可欠な粒子の居住時間を延長する最適化された高さ対直径比で設計されています.陶器加工に必要な高温入力に対応するために,入口温度が180度から350度まで飼料のスラムは通常 固体濃度が40~70%です The tower interior features a smooth polished finish to minimize powder adhesion while avoiding any surface treatments that could introduce contamination into the high-purity ceramic powder product stream.

粒子のサイズ制御は,生成された粒子の特性が下流形成行動,緑体強度,シンテート密度に直接影響するセラミックスプレー乾燥において重要です.遠心分離機は10から動作します1000~18,000RPMで,制御された形状を備えた20~200ミクロン範囲の粒子を生産し,その後の一軸プレス,同位プレス,またはテープ鋳造操作に最適化.原子化器の速度との関係砂泥の固体含有量と結果的な粒子の大きさの分布は,一般的な陶器材料システムで広く特徴づけられています.顧客に特定の配合物に対する信頼性の高い開始パラメータを提供すること.

プロセスの制御は,陶器製造施設の高温で塵の多い環境のために設計された工業用タッチスクリーンインターフェースを持つ頑丈なPLCシステムによって管理されます.制御アーキテクチャは,入口と出口温度を監視し,制御します.原子化器の速度,供給ポンプの速度,システム圧力差,仕様外の状態の設定可能なアラームセットポイント.このシステムは連続生産とバッチ生産の両方をサポートします.高度な電子機器から構造陶器や熱阻害塗装まで,様々なエンドマーケットにサービスを提供する陶器メーカーが要求する運用柔軟性を提供します.

主要 な 特徴
  • セラミックで覆われたサイクロン保護:サイクロン分離器の内部のセラミックタイル内面は 磨砂アルミナとジルコニアのスラムに 耐える防護されていないステンレス鋼の設計と比較して,劇的に使用寿命を延長.
  • ワルフタンカービッド原子化器の挿入物:ワルフスタンカービッドから製造された交換可能な耐磨性アトマイザーディスク挿入は,スプレー乾燥プロセスにおける最大的な機械的侵食点で延長されたサービス間隔を提供します.
  • 交換可能なダクト・ウェア・プレート:相互接続管路のすべての方向変更点における犠牲の磨きプレートは,個々のプレートの交換を通じて費用対効果の高いメンテナンスを実現しながら,主要な構造を保護します.
  • 高温操作:180°Cから350°Cの入口温度範囲は,高固体セラミックスラーリーの高熱需要に対応し,一貫した粒子の品質のために正確な出口温度制御を維持します.
  • 制御された粒子の形状:最適化された原子化器の速度範囲は,単軸圧縮,同位圧縮,テープ鋳造作業に必要なサイズ分布と形状特性を備えたプレス準備型粒子を生産する.
  • 汚染のない設計:塗料や処理が施されない 磨きされた内部表面は,電子機器,生物医学,航空宇宙用途のために使用される 先進的なセラミック粉末の化学的純度を保ちます.
  • 頑丈な工業制御装置:防塵のPLCキャビネットと工業用タッチスクリーンインターフェースは,陶器製造施設の厳しい環境条件でも信頼性の高い動作を提供します.
テクニカル仕様
パラメータ仕様
水蒸発容量100 kg/h (最大水ベース)
互換性のあるセラミック材料アルミナ,ジルコニア,シリコンナイトリド,バリウムチタナート,フェライト,コルディアイト
耐着防止システムセラミックで覆われたサイクロン WCアトマイザー挿入物 交換可能な管盤
原子化器の速度範囲10,000-18,000 RPM (VFD制御)
入口温度180°C~350°C 調節可能,PID
出口温度90°Cから130°C
粒子のサイズ範囲20~200 マイクロン
飼料固体成分40~70% (スローリー)
暖房源の選択肢天然ガス/電気/熱油
原子化器ディスク直径120mm
設置された電源55 kW (暖房システムを除く)
サイクロン 効率>99% 10 マイクロン以上の粒子
申請

Advanced ceramics manufacturers producing alumina substrates for the electronics industry depend on this spray dryer for consistent granule quality that directly influences the microstructure and performance of finished substrates制御された粒子の大きさ分布と離心原子化機によって生成される粒子の形態は,アルミナテープ鋳造製剤の圧迫行動と緑の密度を最適化します.表面の仕上げを決定するハイブリッド回路,LED包装,およびパワーエレクトロニクスモジュールで使用されるシンターされたセラミック基板の平坦性,および電解特性.

歯の修復,酸素センサー,部分的に安定したジルコニアスラムを処理する際に耐磨設計が有利である陶器で覆われたサイクロンは,鉄汚染を防ぐため,完成したジルコニア部品の光学および機械的性質を損なう.精密な温度制御は,スプレー乾燥と後の火焼プロセスステップを通じて,イトリア安定したジルコニア前駆物の臨界期組成を保存します..

磁石部品のためのフェライト粉末,多層セラミックコンデンサータのためのバリウムチタナート,耐久性の組み合わせのためにこの機器を使用しています多燃料の加熱機能により,製造業者は地理的位置に最も経済的なエネルギー源を選択できます.頑丈な制御システムは,継続的な生産作業に要求される信頼性を提供します.モジュラルの耐磨防護設計により,計画された生産停止と一致した費用対効果の高い保守計画が可能になります.

パッケージと品質保証

陶器産業用スプレードライヤーは,多層ショック吸収と防腐性保護コーティングを備えた重用鋼筋フレームキャテリングを使用して,国際出荷のために準備されています.陶器で覆われたサイクロンと耐磨部品は,輸送中に損傷を防ぐために個々の固定と緩衝を受けます詳細な文書には,機器のデータシート,着用防止部品の仕様,部品番号の付いた推奨スペアパーツリスト,設置・投入の手順を.

工場受容試験には,乾燥室の水静止圧力試験,すべての動作速度で原子化装置の機械運転試験,電気安全確認,制御システムの完全機能検証12ヶ月保証は製造欠陥をカバーし,オプションの耐磨保護メンテナンスの契約とスペアパーツの出荷プログラムがあります.私たちのアプリケーションエンジニアはセラミック専用のプロセス最適化サポートを提供しますアルミナ,ジルコニア,フェライト,チタナート材料システムの豊富な経験に基づいて,顧客が初期生産から目標粒子の仕様を達成するのを支援します.

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